光学热台H200-Mini具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

光学冷热台CH600S-XY温度范围-190℃~600℃,温度稳定性±0.1℃，能实现定点、斜率、程序段多模式精准控温。

超高温热台H1000/H1200具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

帕尔贴冷热台PE120温度范围-25℃~120℃,温度稳定性±0.1℃，能实现定点、斜率、程序段多模式精准控温。

帕尔贴冷热台PE120A-T采用无腔室结构，台心超薄，载样台可自由组合成多工位温控模组。

超高温红外聚焦加热炉IH1700广泛应用于材料科学、半导体物理、光电子器件、纳米技术、生物光子学、矿物等领域，精确控制样品温度并实时测试其光学特性（如显微图像、荧光、拉曼、折射率、发光效率等）。